磁控濺射鍍膜設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性；配備不同的靶材，可鍍制出性能更好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。
設備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質(zhì)；可制備TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金屬化合物膜層；可實現(xiàn)深黑色、爐內(nèi)金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍、亮銀色等顏色。
該系列設備主要用于電子產(chǎn)品五金件、高檔鐘表、高檔首飾、品牌皮具五金件等。
磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術融合一體的，可適應廣泛鍍膜靶材，無論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜，使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點?？梢藻兘饘倌ぃ€可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。
全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機身，隱藏式雙層冷卻水套設計。
合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性。
采用多路進氣系統(tǒng)，精準控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。
結(jié)合脈沖偏壓技術，極大提高電粒子能量，從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。
該設備主要廣泛應用于：五金產(chǎn)品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品，如衛(wèi)浴產(chǎn)品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。
可加工的材料包括：不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。
可鍍基材表面狀態(tài)：普通電鍍亮面、啞面(半啞、全啞)、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。
鍍制顏色有：半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍、紫、七彩等。
產(chǎn)品型號：
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